Número do Padrão: YS/T 819-2012(YS/T819-2012)
Chinês:电子薄膜用高纯铜溅射靶材
Português:Alvos de pulverização catódica de cobre de elevada pureza para filmes electrónicos
Data de Vigência:2013-03-01
Âmbito padrão:
Descarregável em PDF: N
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