Número do Padrão: YS/T 719-2009(YS/T719-2009)
Chinês:平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
Português:Alvos planares de pulverização catódica com magnetrões Alvos de silício para películas finas ópticas
Data de Vigência:2010-06-01
Âmbito padrão:
Descarregável em PDF: N
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