Número do Padrão: YS/T 666-2008(YS/T666-2008)
Chinês:工业镓化学分析方法 杂质元素的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
Português:Métodos de análise química do gálio industrial Determinação dos elementos de impureza Espectrometria de emissão atómica com plasma indutivamente acoplado
Data de Vigência:2008-09-01
Âmbito padrão:
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