Número do Padrão: YS/T 14-2015(YS/T14-2015)
Chinês:异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法
Português:Medição da espessura de camadas heterogéneas epitaxiais e policristalinas de silício
Data de Vigência:2015-10-01
Âmbito padrão:Esta norma aplica-se à medição da espessura da camada epitaxial heterogénea e da camada policristalina de silício com a espessura da camada de interface entre o substrato e a camada de deposição inferior a 100 nm, e a gama de medição é de 1 μm a 100 μm.
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