GB/T 36646-2018 Equipamento para preparação de materiais semicondutores de nitreto por epitaxia em fase de vapor de hidreto

Número do Padrão: GB/T 36646-2018
Chinês:制备氮化物半导体材料用氢化物气相外延设备
Português:Equipamento para preparação de materiais semicondutores de nitreto por epitaxia em fase de vapor de hidreto

Data de Vigência:2019-01-01
Autoridade Reguladora:Administração Nacional de Normalização da China
Autoridade Reguladora Emissora:Administração Estatal de Supervisão e Administração do Mercado,中国Administração Nacional de Normalização da China

Cumpre com normas internacionais:N
Descarregável em PDF:Y

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